光照贴图设置
控制烘焙光照的分辨率、滤波和环境光遮蔽。
备注
这些设置影响项目当前活动分支上的所有用户。
找到 LIGHTMAPPING 区域并展开面板:

可用设置如下:
常规
| 设置 | 说明 |
|---|---|
| 尺寸倍率(Size Multiplier) | 自动生成的光照贴图分辨率取决于几何体在世界空间中的面积,以及模型和场景的尺寸倍率。修改此值会影响整个场景的光照贴图分辨率。 |
| 最大分辨率(Max Resolution) | 自动生成的光照贴图纹理的最大分辨率。 |
| 模式(Mode) | 光照贴图烘焙模式:
|
滤波
| 设置 | 说明 |
|---|---|
| 滤波(Filter) | 为运行时烘焙的光照贴图启用双边滤波。 |
| 范围(Range) | 双边滤波器的值域参数。 |
| 平滑度(Smoothness) | 双边滤波器的空间参数。 |
环境光烘焙
| 设置 | 说明 |
|---|---|
| 环境光烘焙(Ambient Bake) | 将环境光烘焙到光照贴图中。 |
| 采样数(Samples) | 烘焙环境光时使用的采样数量。 |
| 球面范围(Sphere Part) | 烘焙环境光时纳入的球面范围。 |
| 遮蔽亮度(Occlusion Brightness) | 烘焙环境光遮蔽的亮度。 |
| 遮蔽对比度(Occlusion Contrast) | 烘焙环境光遮蔽的对比度。 |